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UV光氧化设备 |
UV光氧化工艺基本工作原理及技术特点 光氧化是常温下深度光降解技术。该技术通过特定波长的UV激发光源产生不同能量的光量子;废气物质对该光量子的强烈吸收,在大量携能光量子的轰击下使废气物质分子解离和激发;空气中的氧气和水分及外加的臭氧在该光量子的(分解)作用下可产生大量的新生态氢、活性(游离)氧和羟基氧等活性基团;因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧,臭氧对紫外线光束照射分解后的有机物具有极强的氧化作用;部分废气物质也能与活性基团反应,最终降解转化为低分子化合物、CO2和H2O 等无害物质,从而达到净化废气的目的。 催化工艺基本工作原理 催化工艺由UV光源照射催化剂构成。 催化剂又叫触媒,是在较低的温度环境下能提高化学反应速率,而本身结构(组成、化学性质和质量)不发生永久性改变的物质。催化剂所产生的作用称为催化作用;涉及催化剂的反应为催化反应。 其反应过程为: CS2+e→CS+S+CS2* H2S+e→HS+S+H2S* O2+e→O2*→O·+ O· e+H2O→OH·+H· O·+H2O→2OH· 其反应机理为: H2S + O2、O2-、O2+ → SO3 + H2O NH3 + O2、O2-、O2+ → NOx + H2O VOCs + O2、O2-、O2+ → SO3 +CO2+ H2O CS2* + CS2 → 2CS + S2 CS2* + O2 → CS + SO2 CS + O2 → CO + SO nCS → (CS)n (聚合物) SO + O2 → OSOO SO + OSOO → 2SO2 CO + O → CO2 有机废气→微波+光解+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3→CO2+H2O(达标排放) 产品技术原理: 一、本产品利用微波综合高能高臭氧UV紫外线光束分解恶臭气体,改变恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯系物、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯乙烯、烷烃、烯烃、炔烃、芳香烃、酚、硫化氢、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基、的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。 二、先利于微波对有机废或无机废气进行快速列解分裂打短,再利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。最后通过臭氧发生器制造足够的氧离子对废气进行氧化,达到让废气生成二氧化碳和水的效果。 有机废气→微波+光解+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3→CO2+H2O(达标排放), 三、恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。 四、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的.
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